『壹』 光刻胶现价6.5是什么股
光刻胶现在的价格是¥6.5
他是属于工业级别的股票
可以看公司的业绩来进行审核。
『贰』 光刻胶 EPG 533 哪个公司
台湾永光化学
『叁』 国内哪里可以买到SU8（一种光刻胶，Micro Chem公司的）
Tecan SU-8元件开始供货
据Yole消息，Tecan公司日前宣布其开始引入基于SU-8材料的技术。该公司是光电铸镍微器件的领先供应商，总部位于麻省魏茂斯镇。
上个月该公司出货3000万个SU8材料的微器件。而这么多微器件可以装在一个试管里。
SU-8是一种紫外敏感的厚光刻胶。近年来由于其优秀的化学、热学以及机械稳定性而越来越广泛地应用。目前已经应用在MEMS，包括MOEMS、微流体、机械、传感器、执行器、生物芯片、微齿轮以及校准工具等。
http://www.tecan.co.uk
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文章收入时间： 2006-11-10
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『肆』 光刻胶~~光刻胶的概念是什么
光刻胶
photoresist
又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增
感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液
体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化
反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合
性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部
分，得到所需图像（见图光致抗蚀剂成像制版过程）。
光刻胶广泛用于印刷电路和集成电路的制造以及印刷制
版等过程。光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学
反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照
后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不
可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这
种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的
电路图形。基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为
三种类型。①光聚合型，采用烯类单体，在光作用下生
成自由基，自由基再进一步引发单体聚合，最后生成聚
合物，具有形成正像的特点。②光分解型，采用含有叠
氮醌类化合物的材料，经光照后,会发生光分解反应,由
油溶性变为水溶性，可以制成正性胶。③光交联型，采
用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其
分子中的双键被打开，并使链与链之间发生交联，形成
一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，这是一种典
型的负性光刻胶。柯达公司的产品KPR胶即属此类。
感光树脂在用近紫外光辐照成像时，光的波长会限
制分辨率（见感光材料）的提高。为进一步提高分辨率
以满足超大规模集成电路工艺的要求，必须采用波长更
短的辐射作为光源。由此产生电子束、X 射线和深紫外
(＜250nm)刻蚀技术和相应的电子束刻蚀胶，X射线刻蚀
胶和深紫外线刻蚀胶，所刻蚀的线条可细至1□m以下。
http://www.adsonbbs.com/ke_detail.asp?id=68
光刻胶在接受一定波长的光或者射线时,会相应的发生一种光化学反应或者激励作用。光化学反应中的光吸收是在化学键合中起作用的处于原子最外层的电子由基态转入激励态时引起的。对于有机物，基态与激励态的能量差为3~6eV，相当于该能量差的光(即波长为0.2~0.4μm的光)被有机物强烈吸收，使在化学键合中起作用的电子转入激励态。化学键合在受到这种激励时，或者分离或者改变键合对象，发生化学变化。电子束、X射线及离子束(即被加速的粒子)注入物质后，因与物质具有的电子相互作用，能量逐渐消失。电子束失去的能量转移到物质的电子中，因此生成激励状态的电子或二次电子或离子。这些电子或离子均可诱发光刻胶的化学反应。
『伍』 给台积电，阿斯麦供应光刻胶的中国公司哪家最好
给台积电阿斯麦尔供应光科胶是中国公司哪家的最好？应该应该来说，现在这个是一个新的行业，现在还没有出现比较明显的优势
『陆』 生产光刻胶 的，目前有股票的上市公司。
国内有一家科华，只能生产G-LINE的胶，但是离上市还远，光刻胶I-LINE,KRF,ARF的主要都是外国生产的。主要有TOK,DOW,SUMITOMO，FUJI等
『柒』 美国Futurrex是一种比较高端的光刻胶生产厂商.请问有谁知道它在中国的代理是哪个公司我想资讯一款产品.
网上大概查了一下你说的这个品牌，貌似他们的产品是以负胶为主，从产品介绍上来看可以不用HMDS处理，但是负胶的解析度一般来说没有正胶高，怎么选择要看你实际做的产品而定
『捌』 请问国内卖SU8光刻胶的公司有哪些呢
Microchem光刻胶目前国内提供现货的没有几家，基本都是有订单才会从美国订购。货期一般在3个月左右。比较慢！我知道苏州中芯启恒科学仪器有限公司有现货，不过是分装。不想等太久可以去咨询。